很难的好吗。
讲实话，光刻机人类内卷的产物。
光刻机很难，更离谱的是，主播两年多不到三年的时间就可以开始制造了。
两年的时间还不够我造个娃出来的。
建议那个造娃两
年还没造出来的去医院看看，说不是你和你老婆哪个有问题。
我感觉研究光刻机还不如研究碳基芯片，硅基芯片反正快到顶点了，而且碳基芯片还不需要光刻机就可以制造。
两男的怎么造的出来呢建议换人
过来人的经历告诉你，碳基芯片目前你就当一个骗经费的就行了，不信就等10年看看，我说的绝对没错
碳基芯片不需要光刻机吗
扯淡呢，不用光刻机你怎么雕刻曝光电路图。
激光烧蚀法电弧放电法都可以用来曝光碳基芯片的电路图
弹幕议论纷纷，聊的内容正好进入韩元眼中，看到虚拟屏幕上的弹幕，眼神中闪过一丝诧异，随口接道
“碳基芯片的确可以在一定程度上绕过光刻机，但那仅限于十纳米级之上的芯片。”
“顶级的碳基芯片同样还是需要光刻机来进行曝光处理的。”
“在微电子器时代，没有任何东西更比光子适合当做用来雕刻的手术刀了。”
“稳定、可靠、速度，都是光刻机的优点。”
看到观众说激光烧蚀法和电弧放电法雕刻曝光电路图，韩元还是有点小诧异的。
因为这的确是对的。
对于毫米级，微米级的碳基芯片来说，使用这两种方法来制备碳基芯片的确是一种可行的办法。
这是碳原子的性质决定的。
无论是使用碳纳米管半导体材料，还是石墨烯半导体材料制备芯片，都能在一定程度上被激光和电弧进行雕刻。
其原理无非就是提升光的能级或者使用电弧的能量来蚀刻或击穿指定线路。
但到了十纳米这个级别的时候，上述的两种方法就都会失去原有的效果。
激光烧蚀法虽然同样是使用光源手术刀，但它使用的是红宝石或蓝宝石激光器，在能级上比光刻机使用的紫外光源要高多了
在纳米级时，激光烧蚀法生成的激光会因为能级过大而直接蚀穿栅门和基底，电弧放电法同理。
两者在纳米级雕刻时都会对栅门造成大规模不可逆的破坏，从而使整块芯片直接损坏。
这些东西都是韩元从碳基集成电路板制备信息学习到的。
至少能够生产出来或者说在生产时会出现什么问题都是经过系统验证的。
不过他还是小看了观众的狂热，在随口说出来这些话后，整个直播间里面又了起来。
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