其他的都能在化工厂找到原材料。
唐修远嗯了一声：“暂时没有等有需要了，我们会跟你们说的。”
“好！”
王青松答应了下来。
这些人来了有接近一半年的时间，也是时候回去一部分了。
而且中间又来了一些人。
至于生产线，他现在已经完全放开了。
只要把控好设备，别被人弄走拆开研究，那么就不担心这些人能知道什么。
哪怕是真正的科研大佬来了也抓瞎。
没办法，这些机器系统，那些大佬现在都看不懂。
随后询问了一下生产情况，他这才离开去了研究所。
现在华科半导体的经营事情，斯波克基本上都交给了副经理，他则是主持研究所的事情。
不过每天他还是会去公司。
老板兼研发的人才多了去了。
只有研究所上了正轨以后，才不需要老板上手。
斯波克正在一张巨大的图纸上写写画画。
看到他过来也只是笑着招呼一声，又低头工作了起来。
王青松在那里看了一会。
斯波克这才抬头：“boss，找我有事情，还是说能给我新的灵感？”
研究所里的港岛员工看到他过来，自然也是过来做翻译。
王青松闻言笑了笑：“我可没有！样机试验怎么样了？”
距离他给的资料已经过去一年时间。
设备已经制造出来了。
或者说，半年前就已经制作出来一套光刻机设备。
但是这台光刻机有着这个时代光刻的通病。
那就是成品率。
主要原因自然是因为光掩膜的使用寿命。
现在是半导体的远古时代。
很多后世的软硬件这个时代都没有。
和后世的用计算机和eda软件设计不同的是，这个时代的光掩模真的是靠人工手搓的。
初代工程师先在方格纸上用彩色铅笔绘制好集成电路版图。
再用精细的刀片在光掩模母版上，徒手把晶体管和电路连接一点一点刻出来。
最后用母版图形，用相机缩小50到100倍。
才能用一张用来做光刻的光掩模。
和这种光掩模匹配的自然是接触式光刻机。
这种光刻机只会简单粗暴的将光掩模覆盖在硅片上。
掩模涂层与光刻机涂层直接接触，再打光照射，完成曝光。
但是这种光照方式的失败率和成本都很高。
因为胶体本身及其粘附的浮尘颗粒，不仅影响效果，还会对光掩模造成损伤。
10张晶片才能用有一张能用，还会加速光掩模的使用寿命。
成本是相当的高。
后来按照他给的资料，又在接触式光刻机的基础上，加了一个水平和垂直方向上可移动的平台。
以及一个测量光掩模和晶片之间的显微镜。
让两者在刻录的时候，靠近又不接近，解决了之前的问题。
也就是接近式的光刻机。
但是这种光刻机解决了之前的问题，但是精度下降。
所以这两款产品出来以后，他直接就放弃了。